| 部分# | 制造商 | 产品详细信息 | 可用性 | 定价 | 添加到购物车 | 频率最小(GHz) | 频率马克斯(GHz) | 输出功率(W) | 获得(dB) | 过程 | Avg权力(W) | 类型 | ||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
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更多的细节T2G6001528-Q3
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194年股票 |
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0 | 6 | 18 | 9 | 氮化镓 | 射频功率离散晶体管 | ||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
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更多的细节T2G6000528-Q3 |
3股票 |
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氮化镓 | 射频功率离散晶体管 | ||||||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
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更多的细节T2G6003028-FS
TriQuint T2G6003028-FS是30 W (P3dB)离散GaN SiC HEMT运营从直流到6 GHz。0.25设备构造与TriQuint的证明过程,具有先进的场板技术优化功率和效率在高流失偏见操作条件。这种优化可以降低系统成本的减少放大器的阵容和热管理成本低。 |
147年股票 |
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0 | 6 | 30. | 14 | 氮化镓 | 射频功率离散晶体管 | ||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
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更多的细节TGF2023-2-02
TriQuint TGF2023-2-02是一个离散的2.5毫米GaN SiCHEMT运营从直流到18 GHz。部分设计使用TriQuint的证明0.25嗯GaN生产过程。这个过程功能先进的场板技术优化微波功率和效率在高流失偏见操作条件。设备通常提供41 dBm的饱和输出功率与功率增益后的18 3 GHz。最大的功率效率是58%使TGF2023-2-02适合高效的应用程序。部分是无铅,通过无铅认证。 |
125年股票 |
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0 | 18 | 12 | 12.3 | 氮化镓 | 射频功率模 | ||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
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更多的细节TGF2023-2-01
TriQuint TGF2023-2-01是一个离散的1.25毫米GaN SiCHEMT运营从直流到18 GHz。部分设计使用TriQuint的证明0.25嗯GaN生产过程。这个过程功能先进的场板技术优化微波功率和效率在高流失偏见操作条件。设备通常提供38 dBm的饱和输出功率与功率增益后的18 3 GHz。最大的功率效率是66%使TGF2023-2-01适合高效的应用程序。部分是无铅,通过无铅认证。 |
45的股票 |
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0 | 18 | 6 | 18 | 氮化镓 | 射频功率模 | ||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
2库存 | 提交报价请求 |
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0.96 | 1.215 | 280年 | 17 | 氮化镓 | 射频功率离散晶体管 | |||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
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Qorvo |
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2.5 | 5 | 16 | 氮化镓 | 射频功率离散晶体管 | ||||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
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1.2 | 1.4 | 838.5 | 18 | 氮化镓 | 射频功率离散晶体管 | |||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
100订单 |
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1.2 | 1.4 | 375年 | 17 | 氮化镓 | 射频功率离散晶体管 | |||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
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3.4 | 3.6 | 60 | 12.6 | 氮化镓 | ||||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
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3.3 | 3.6 | 60 | 13.3 | 氮化镓 | 射频功率离散晶体管 | |||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
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2.5 | 2.7 | 15 | 15 | 氮化镓 | 射频功率离散晶体管 | |||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
76订单 |
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0 | 20. | 13 | 砷化镓 | 射频功率离散晶体管 | ||||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
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3.4 | 3.6 | 7.6 | 15 | 氮化镓 | 射频功率离散晶体管 | |||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
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0 | 6 | 35 | 18.8 | 氮化镓 | 射频功率离散晶体管 | |||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
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Qorvo |
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2.7 | 3.5 | 30. | 18.4 | 氮化镓 | 射频功率离散晶体管 | |||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
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0.96 | 1.215 | 1800年 | 22.5 | 氮化镓 | 射频功率离散晶体管 | |||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
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1 | 1.1 | 1800年 | 22.5 | 氮化镓 | 射频功率离散晶体管 | |||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
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0.03 | 1.2 | 8.7 | 21 | 射频功率离散晶体管 | ||||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
25在秩序 |
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射频功率离散晶体管 | ||||||||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
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射频功率离散晶体管 | ||||||||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
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2.62 | 2.69 | 200年 | 23 | 氮化镓 | 射频功率离散晶体管 | |||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
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2.575 | 2.635 | 220年 | 15.9 | 氮化镓 | 射频功率离散晶体管 | |||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
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0 | 4 | 10 | 24.7 | 氮化镓 | 射频功率离散晶体管 | |||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
250订单 |
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0 | 4 | 15 | 24 | 氮化镓 | 射频功率离散晶体管 | |||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
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1.2 | 1.4 | 450年 | 17.5 | 氮化镓 | 射频功率离散晶体管 | |||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
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Qorvo |
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更多的细节T2G6003028-XCC-1-FS |
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0 | 6 | 30. | 14 | 射频功率离散晶体管 | |||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
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0 | 6 | 18 | 9 | 射频功率离散晶体管 | |||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
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更多的细节TGF3021-SM |
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0.03 | 4 | 30. | 19.3 | 氮化镓 | 射频功率离散晶体管 | ||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
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更多的细节TGF2929-FS |
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0 | 3.5 | One hundred. | 14 | 氮化镓 | 射频功率离散晶体管 | ||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
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更多的细节TGF2965-SM |
1683订单 |
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0.03 | 3 | 5 | 18 | 氮化镓 | 射频功率离散晶体管 | ||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
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更多的细节TGF2819-FS |
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0 | 3.5 | One hundred. | 14 | 氮化镓 | 射频功率离散晶体管 | ||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
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更多的细节T1G4020036-FL
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66订单 |
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0 | 3.5 | 260年 | 16 | 氮化镓 | 射频功率离散晶体管 | ||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
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0 | 2 | 285年 | 18 | 氮化镓 | 射频功率离散晶体管 | ||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
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更多的细节T1G2028536-FL |
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0 | 2 | 285年 | 18 | 氮化镓 | 射频功率离散晶体管 | ||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
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更多的细节T1G4012036-FS |
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0 | 3.5 | 120年 | 16 | 氮化镓 | 射频功率离散晶体管 |
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更多的细节T2G6001528-Q3
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更多的细节T2G6003028-FS
TriQuint T2G6003028-FS是30 W (P3dB)离散GaN SiC HEMT运营从直流到6 GHz。0.25设备构造与TriQuint的证明过程,具有先进的场板技术优化功率和效率在高流失偏见操作条件。这种优化可以降低系统成本的减少放大器的阵容和热管理成本低。 |
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更多的细节TGF2023-2-02
TriQuint TGF2023-2-02是一个离散的2.5毫米GaN SiCHEMT运营从直流到18 GHz。部分设计使用TriQuint的证明0.25嗯GaN生产过程。这个过程功能先进的场板技术优化微波功率和效率在高流失偏见操作条件。设备通常提供41 dBm的饱和输出功率与功率增益后的18 3 GHz。最大的功率效率是58%使TGF2023-2-02适合高效的应用程序。部分是无铅,通过无铅认证。 |
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更多的细节TGF2023-2-01
TriQuint TGF2023-2-01是一个离散的1.25毫米GaN SiCHEMT运营从直流到18 GHz。部分设计使用TriQuint的证明0.25嗯GaN生产过程。这个过程功能先进的场板技术优化微波功率和效率在高流失偏见操作条件。设备通常提供38 dBm的饱和输出功率与功率增益后的18 3 GHz。最大的功率效率是66%使TGF2023-2-01适合高效的应用程序。部分是无铅,通过无铅认证。 |
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更多的细节T1G4020036-FL
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