| 部分# | 制造商 | 产品详细信息 | 可用性 | 定价 | 添加到购物车 | 最小频率(GHz) | 最大频率(GHz) | 输出功率(W) | 获得(dB) | 过程 | 平均功率(W) | 类型 | ||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
10库存 |
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射频功率分立晶体管 | ||||||||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
8库存 |
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1.2 | 1.4 | 18 | 氮化镓 | |||||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
816现货 |
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0 | 20. | 10.4 | 砷化镓 | 射频功率分立晶体管 | ||||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
111库存 |
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0 | 20. | 11.5 | 砷化镓 | 射频功率分立晶体管 | ||||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
107库存 |
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0 | 20. | 11.5 | 砷化镓 | 射频功率分立晶体管 | ||||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
49现货 |
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0 | 20. | 14 | 砷化镓 | 射频功率分立晶体管 | ||||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
60库存 |
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0 | 20. | 14 | 砷化镓 | 射频功率分立晶体管 | ||||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
7库存 |
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射频功率分立晶体管 | ||||||||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
1库存 |
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射频功率分立晶体管 | ||||||||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
更多信息
更多资料T2G6000528-Q3 |
12库存 |
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氮化镓 | 射频功率分立晶体管 | ||||||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
提交报价请求 |
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2.5 | 5 | 16 | 氮化镓 | 射频功率分立晶体管 | ||||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
249订购 |
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0 | 20. | 12 | 砷化镓 | 射频功率分立晶体管 | ||||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
126订购 |
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0 | 20. | 13 | 砷化镓 | 射频功率分立晶体管 | ||||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
提交报价请求 | 提交报价请求 |
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Qorvo |
提交报价请求 | 提交报价请求 |
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射频功率分立晶体管 | ||||||||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
提交报价请求 | 提交报价请求 |
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Qorvo |
1库存 | 提交报价请求 |
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0 | 25 | 2 | 18 | 氮化镓 | 射频功率分立晶体管 | |||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
18库存 | 提交报价请求 |
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1 | 25 | 4.8 | 16 | 氮化镓 | 射频电源模 | |||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
更多信息
更多资料TGF2977-SM
Qorvo TGF2977-SM是一个6 W (P3dB)的SiC HEMT分立GaN,工作范围从直流到12 GHz。该设备采用经过验证的TQGaN25工艺,具有先进的现场板技术,可在高漏压操作条件下优化功率和效率。这种优化可以潜在地降低系统成本,包括更少的放大器排队和更低的热管理成本。 该设备安装在一个行业标准的3 x 3毫米表面贴装QFN封装。 无铅,符合ROHS标准。 下载这个白皮书由英国Plextek RFI的设计师开发,展示了基于TGF2977-SM的单级功率放大器的出色性能,工作在x波段9.3至9.5GHz。 |
88现货 |
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0 | 12 | 5 | 13 | 氮化镓HEMT | 射频功率分立晶体管 | ||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
更多信息
更多资料TGF2965-SM |
1570库存 |
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0.03 | 3. | 5 | 18 | 氮化镓 | 射频功率分立晶体管 | ||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
更多信息
更多资料TGF3020-SM |
40现货 |
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4 | 6 | 5 | 12.7 | 氮化镓 | 射频功率分立晶体管 | ||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
50现货 | 提交报价请求 |
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2.5 | 5 | 6 | 18.6 | 氮化镓 | 射频功率分立晶体管 | |||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
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更多资料TGF2023-2-01
TriQuint TGF2023-2-01是一种基于SiCHEMT的1.25 mm分立GaN,工作范围从直流到18 GHz。该部件采用TriQuint经过验证的0.25 um GaN生产工艺设计。该工艺具有先进的场板技术,可在高漏极偏压操作条件下优化微波功率和效率。该器件通常提供38 dBm的饱和输出功率,在3 GHz时功率增益为18 dB。最大功率增加效率为66%,这使得TGF2023-2-01适用于高效率应用。该部件无铅,符合RoHS标准。 |
65库存 |
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0 | 18 | 6 | 18 | 氮化镓 | 射频电源模 | ||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
92库存 |
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1 | 25 | 7 | 15 | 氮化镓 | 射频功率分立晶体管 | |||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
提交报价请求 | 提交报价请求 |
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3.4 | 3.6 | 7.6 | 15 | 氮化镓 | 射频功率分立晶体管 | |||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
181库存 |
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2.5 | 5 | 8 | 18.8 | 氮化镓 | 射频功率分立晶体管 | |||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
提交报价请求 |
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0.03 | 1.2 | 8.7 | 21 | 射频功率分立晶体管 | ||||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
90现货 | 提交报价请求 |
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1 | 25 | 10 | 16 | 氮化镓 | 射频功率分立晶体管 | |||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
更多信息
更多资料TGF3015-SM
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100库存 |
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0.03 | 3. | 10 | 17.1 | 氮化镓 | 射频功率分立晶体管 | ||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
提交报价请求 |
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0 | 12 | 10 | 24 | 氮化镓 | 射频功率分立晶体管 | |||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
提交报价请求 |
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0 | 4 | 10 | 24.7 | 氮化镓 | 射频功率分立晶体管 | |||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
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更多资料TGF2023-2-02
TriQuint TGF2023-2-02是一种基于SiCHEMT的2.5 mm分立GaN,工作范围从直流到18 GHz。该部件采用TriQuint经过验证的0.25 um GaN生产工艺设计。该工艺具有先进的场板技术,可在高漏极偏压操作条件下优化微波功率和效率。该器件通常提供41 dBm的饱和输出功率,在3 GHz时功率增益为18dB。最大功率增加效率为58%,这使得TGF2023-2-02适用于高效率应用。该部件无铅,符合RoHS标准。 |
195库存 |
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0 | 18 | 12 | 12.3 | 氮化镓 | 射频电源模 | ||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
41库存 | 提交报价请求 |
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1 | 25 | 14 | 14 | 氮化镓 | 射频电源模 | |||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
1584库存 |
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0.03 | 1.215 | 15 | 19 | 氮化镓 | 射频功率分立晶体管 | |||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
更多信息
更多资料T2G6001528-SG |
67库存 | 提交报价请求 |
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0 | 6 | 15 | 15 | 氮化镓 | 射频功率分立晶体管 | ||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
提交报价请求 |
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2.5 | 2.7 | 15 | 15 | 氮化镓 | 射频功率分立晶体管 | |||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
68订货 |
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0.03 | 1.2 | 15 | 18.4 | 氮化镓 | 射频功率分立晶体管 | |||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
700订购 |
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0 | 4 | 15 | 24 | 氮化镓 | 射频功率分立晶体管 | |||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
更多信息
更多资料T2G6001528-Q3
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194库存 |
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0 | 6 | 18 | 9 | 氮化镓 | 射频功率分立晶体管 | ||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
提交报价请求 | 提交报价请求 |
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0 | 6 | 18 | 9 | 射频功率分立晶体管 | ||||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
更多信息
更多资料TGF2978-SM
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385现货 |
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0 | 12 | 20. | 11 | 氮化镓HEMT | 射频功率分立晶体管 | ||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
提交报价请求 |
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0 | 5 | 20. | 19 | 氮化镓 | ||||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
381库存 | 提交报价请求 |
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0.03 | 1.2 | 25 | 20.8 | 氮化镓 | 射频功率分立晶体管 | |||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
更多信息
更多资料TGF2979-SM
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65库存 |
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0 | 12 | 25 | 11 | 氮化镓HEMT | 射频功率分立晶体管 | ||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
更多信息
更多资料TGF2023-2-05
TriQuint TGF2023-2-05是一种基于SiCHEMT的5.0 mm分立GaN,工作范围从直流到18 GHz。该部件采用TriQuint经过验证的0.25um GaN生产工艺设计。该工艺具有先进的场板技术,可在高漏极偏压操作条件下优化微波功率和效率。该器件通常提供43.9 dBm的饱和输出功率,在3 GHz时功率增益为17.8 dB。最大功率增加效率为56%,这使得TGF2023-2-05适用于高效率应用。该部件无铅,符合RoHS标准。 |
1510库存 |
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0 | 18 | 25 | 11.9 | 氮化镓 | 射频电源模 | ||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
60库存 |
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0 | 12 | 27 | 19.6 | 氮化镓 | 射频电源模 | |||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
更多信息
更多资料TGF3021-SM |
5库存 |
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0.03 | 4 | 30. | 19.3 | 氮化镓 | 射频功率分立晶体管 | ||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
更多信息
更多资料T2G6003028-FL
TriQuint T2G6003028-FL是一个30 W (P3dB)的SiC HEMT离散GaN,工作从直流到6 GHz。该设备采用TriQuint经过验证的0.25 um工艺,具有先进的现场板技术,可在高漏压操作条件下优化功率和效率。这种优化可以潜在地降低系统成本,包括更少的放大器排队和更低的热管理成本。 |
5库存 |
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0 | 6 | 30. | 14 | 氮化镓 | 射频功率分立晶体管 | ||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
更多信息
更多资料T2G6003028-FS
TriQuint T2G6003028-FS是一个30 W (P3dB)的SiC HEMT离散GaN,工作从直流到6 GHz。该设备采用TriQuint经过验证的0.25 um工艺,具有先进的现场板技术,可在高漏压操作条件下优化功率和效率。这种优化可以潜在地降低系统成本,包括更少的放大器排队和更低的热管理成本。 |
163库存 |
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0 | 6 | 30. | 14 | 氮化镓 | 射频功率分立晶体管 | ||||||||||||||||||||||||
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Qorvo |
提交报价请求 |
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2.7 | 3.5 | 30. | 18.4 | 氮化镓 | 射频功率分立晶体管 |
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更多信息
更多资料TGF2977-SM
Qorvo TGF2977-SM是一个6 W (P3dB)的SiC HEMT分立GaN,工作范围从直流到12 GHz。该设备采用经过验证的TQGaN25工艺,具有先进的现场板技术,可在高漏压操作条件下优化功率和效率。这种优化可以潜在地降低系统成本,包括更少的放大器排队和更低的热管理成本。 该设备安装在一个行业标准的3 x 3毫米表面贴装QFN封装。 无铅,符合ROHS标准。 下载这个白皮书由英国Plextek RFI的设计师开发,展示了基于TGF2977-SM的单级功率放大器的出色性能,工作在x波段9.3至9.5GHz。 |
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更多信息
更多资料TGF2023-2-01
TriQuint TGF2023-2-01是一种基于SiCHEMT的1.25 mm分立GaN,工作范围从直流到18 GHz。该部件采用TriQuint经过验证的0.25 um GaN生产工艺设计。该工艺具有先进的场板技术,可在高漏极偏压操作条件下优化微波功率和效率。该器件通常提供38 dBm的饱和输出功率,在3 GHz时功率增益为18 dB。最大功率增加效率为66%,这使得TGF2023-2-01适用于高效率应用。该部件无铅,符合RoHS标准。 |
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更多信息
更多资料TGF3015-SM
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更多信息
更多资料TGF2023-2-02
TriQuint TGF2023-2-02是一种基于SiCHEMT的2.5 mm分立GaN,工作范围从直流到18 GHz。该部件采用TriQuint经过验证的0.25 um GaN生产工艺设计。该工艺具有先进的场板技术,可在高漏极偏压操作条件下优化微波功率和效率。该器件通常提供41 dBm的饱和输出功率,在3 GHz时功率增益为18dB。最大功率增加效率为58%,这使得TGF2023-2-02适用于高效率应用。该部件无铅,符合RoHS标准。 |
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更多信息
更多资料T2G6001528-Q3
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更多信息
更多资料TGF2978-SM
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更多信息
更多资料TGF2979-SM
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更多信息
更多资料TGF2023-2-05
TriQuint TGF2023-2-05是一种基于SiCHEMT的5.0 mm分立GaN,工作范围从直流到18 GHz。该部件采用TriQuint经过验证的0.25um GaN生产工艺设计。该工艺具有先进的场板技术,可在高漏极偏压操作条件下优化微波功率和效率。该器件通常提供43.9 dBm的饱和输出功率,在3 GHz时功率增益为17.8 dB。最大功率增加效率为56%,这使得TGF2023-2-05适用于高效率应用。该部件无铅,符合RoHS标准。 |
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更多信息
更多资料T2G6003028-FL
TriQuint T2G6003028-FL是一个30 W (P3dB)的SiC HEMT离散GaN,工作从直流到6 GHz。该设备采用TriQuint经过验证的0.25 um工艺,具有先进的现场板技术,可在高漏压操作条件下优化功率和效率。这种优化可以潜在地降低系统成本,包括更少的放大器排队和更低的热管理成本。 |
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更多信息
更多资料T2G6003028-FS
TriQuint T2G6003028-FS是一个30 W (P3dB)的SiC HEMT离散GaN,工作从直流到6 GHz。该设备采用TriQuint经过验证的0.25 um工艺,具有先进的现场板技术,可在高漏压操作条件下优化功率和效率。这种优化可以潜在地降低系统成本,包括更少的放大器排队和更低的热管理成本。 |