2019年11月18日
您是否使用主动和被动微电子电路和设计?如果是这样,你非常熟悉高温可以对这些设备的负面影响。高工作温度可能导致性能下降和使用寿命减少。因此,工程师应不断考虑对设备设计中的潜在问题的热意义。
氮化镓(GaN)仍然被认为是一种相对较新的半导体技术。因为它的优越的特性,它在以前在遗留技术主导的市场领域使用了越来越多。GaN上方的一个领域在现任技术上升是热管理。简而言之,GaN“可以取热”比其他半导体技术要好得多。
这个博客帖子和我们的视频标题为“理解GaN热分析”提供关于如何使用GaN进行热考虑的实用提示。
通过估计器件的最大沟道温度(T)部分地推导了半导体器件的可靠性CH,马克斯)所以估计寿命可以确定。这些数值是通过测量和模拟热阻、功率耗散和热传递来收集的。
红外(IR)显微镜广泛用于通过搜索半导体器件上的热点来确定故障位置。然而,空间分辨率限制,难以成像反射表面,以及芯片表面结构(空气桥)限制IR成像用于测量GaN通道温度的有用性。此外,即使从IR测试获得完全准确的数字,也是真正的最大信道温度实际上居住在设备门下方的某处。
尽管使用红外技术有局限性,但它仍然是测量设备温度的常用技术。在Qorvo,除了红外成像外,我们还采取了一些步骤来精确测定GaN TCH,马克斯.我们使用3D热建模,也与微拉曼热成像一起使用3D热建模(FEA),然后将这些结果与RF测试和IR成像进行比较。使用此组合数据集,我们开发了一个用于包装部件的FEA模型,为T提供准确的值CH,马克斯.
(1) 寻找设备红外表面中国
(2) 确定FEA设备的平均失效时间
我们鼓励您查看短文章视频“理解GaN热分析”以及申请说明GaN设备通道温度,热阻和可靠性估计有关此主题的更详细解释。
有其他主题,您希望Qorvo专家涵盖吗?将您的建议通过电子邮件发送给Qorvo博客团队它可以在即将到来的帖子中得到特色。请在电子邮件正文中包含您的联系信息。